Gas electrónico
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![Semiconductor de gas SF6 de hexafluoruro de azufre]()
Semiconductor de gas SF6 de hexafluoruro de azufreMásEl hexafluoruro de azufre (SF6) es un gas incoloro,{1}}nocivo y no-inflamable a temperatura atmosférica. Es químicamente estable y tiene un buen aislamiento. El hexafluoruro de azufre (SF6) es un gas
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99,999% gas de hexafluoruro de azufre 5N a la ventaMásSF6 es la abreviatura de hexafluoruro de azufre; a temperaturas ambientales, el hexafluoruro de azufre es un gas incoloro, inodoro y no-tóxico de alta estabilidad química e inercia. Tampoco
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![Gas especial SF6 Hexafluoruro de azufre]()
Gas especial SF6 Hexafluoruro de azufreMásEl hexafluoruro de azufre (SF6) es un gas de efecto invernadero inorgánico, incoloro, inodoro, no-inflamable y extremadamente potente, que es un excelente aislante eléctrico. El SF6 tiene una
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![Gas de hexafluoruro de azufre de alta pureza a la venta]()
Gas de hexafluoruro de azufre de alta pureza a la ventaMásEl hexafluoruro de azufre, a menudo abreviado como SF6, comparte similitudes con el dióxido de carbono (CO2) en sus propiedades como gas de efecto invernadero. El SF6 es un gas sintético e inodoro
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Gas C3F8 para la industria de semiconductoresMásEn la industria de los semiconductores: la mezcla de gas octafluoropropano C3F8 y oxígeno se utiliza como material de grabado por plasma, que reaccionará selectivamente con la matriz metálica de las
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C3F8 de alta pureza para cirugía ocularMásEl octafluoropropano (C3F8, también conocido como perfluoropropano, R218) es un compuesto perfluorado con buena estabilidad. Es un gas incoloro en condiciones estándar y tiene muy baja solubilidad en
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![Hexafluoruro de azufre de gas semiconductor SF6]()
Hexafluoruro de azufre de gas semiconductor SF6MásEl hexafluoruro de azufre SF6 es uno de los gases fluorados más utilizados en el grabado en seco de semiconductores. Se caracteriza por una alta selectividad y una fuerte tasa de grabado. Es adecuado
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Gas de grabado seco Difluorometano (R32)|Alta pureza para...MásDifluorometano También conocido como HFC-32/R32, fórmula molecular: CH2F2, como gas de grabado anisotrópico para Si3N4, tiene una selectividad relativamente baja para SiO2 y Si. Además de ser el
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Difluorometano R32 (CH₂F₂) como gas de grabado seco para ...MásDifluorometano R32 También conocido como HFC-32, fórmula molecular: CH2F2, como gas de grabado anisotrópico para Si3N4, tiene una selectividad relativamente baja para SiO2 y Si. Además de ser el
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![99,999% octafluorociclobutano C318 para la industria de semiconductores]()
99,999% octafluorociclobutano C318 para la industria de s...MásEl perfluorociclobutano C318 con un alto contenido de 99,999 % es un gas electrónico que se puede utilizar en el grabado y limpieza de circuitos integrados-a gran escala en la industria de
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![Gas octafluorociclobutano C4F8]()
Gas octafluorociclobutano C4F8MásEl octafluorociclobutano es un compuesto orgánico importante que tiene diversos usos industriales debido a sus propiedades únicas.. Pureza: 99,9%~99,999%. Otros nombres: perfluorociclobutano.
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Gas octafluorociclobutano C4F8 de alta pureza al 99,999%MásGas octafluorociclobutano C4F8, pureza: 99,999%. A menudo se utiliza en el proceso de semiconductores PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition), el C4F8 se utiliza como sustituto del CF4 o
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