¿Qué es la limpieza de obleas? Teléfono:+086-592-5803997
La limpieza de obleas es un proceso crucial de semiconductores que elimina partículas, sustancias orgánicas y contaminantes metálicos de las obleas de silicio mediante baños químicos húmedos (como RCA Clean,Piraña graba con H₂SO₄/H₂O₂), solventes (acetona, metanol), ácido fluorhídrico (HF) y lavado mecánico o métodos megasónicos, seguido de enjuagues con agua ultra-pura y secado con nitrógeno para garantizar superficies-libres de defectos para la fabricación de microchips, con procesos que evolucionan desde la inmersión por lotes hasta la pulverización de una sola-oblea para mayor precisión.
Hidrofluoroéter HFE347, que combina cero ODP, bajo GWP, no-inflamabilidad y cero residuos, se ha convertido rápidamente en el nuevo favorito de los ingenieros de fábrica y ahora se considera un potente complemento y actualización de los métodos convencionales.
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| Paso de limpieza de oblea | Objetivo |
|---|---|
| Limpieza previa-difusión | Crea una superficie libre de contaminantes metálicos, particulados y orgánicos. En algunos casos, es necesario eliminar el óxido nativo o los óxidos químicos. |
| Limpieza de eliminación de iones metálicos | Elimine los iones metálicos, que pueden tener efectos perjudiciales en el funcionamiento del dispositivo. |
| Limpieza de eliminación de partículas | Retire las partículas de la superficie mediante fregado químico o mecánico mediante limpieza Megasonic. |
| Limpieza posterior al grabado | Retire el fotorresistente y los polímeros que quedaron después del proceso de grabado. Elimine el fotorresistente y los residuos sólidos, incluido el "polímero de grabado". |
| Limpieza de eliminación de película | Grabado/tira de nitruro de silicio, Grabado/tira de óxido, Grabado/tira de silicio y Grabado/tira de metal |
Los límites de la limpieza convencional y el papel estratégico de HFE Teléfono:+086-592-5803997
El proceso clásico de limpieza de obleas RCA se basa en soluciones químicas acuosas de alta-temperatura y alta-pureza (p. ej., SC-1, SC-2). Si bien es excelente para eliminar iones, contaminantes metálicos y partículas, el proceso tiene dos limitaciones inherentes:
Eficacia limitada contra contaminantes orgánicos específicos como residuos fotorresistentes, aceites para bombas de vacío, grasas de silicona y lubricantes avanzados de componentes de precisión.
El desafío del secado con "agua": la alta tensión superficial del agua plantea un riesgo crítico durante la fase de secado final, que a menudo provoca el colapso del patrón y residuos de marcas de agua, especialmente en estructuras de alta-aspecto-.
HFE 347, como disolvente de hidrofluoroéter avanzado, aborda estos puntos críticos directamente a través de sus propiedades fisicoquímicas únicas, posicionándose como el medio ideal para la "limpieza en seco-en-húmeda de precisión".
Información básica sobre la limpieza de obleas Hidrofluoroéter HFE347
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HFE (hidrofluoroéter) es una clase de compuestos orgánicos compuestos de hidrógeno, flúor, carbono y oxígeno, que combinan enlaces éter (R-O-R') y estructuras fluoroalquilo. Está diseñado para conservar el excelente rendimiento de los disolventes fluorados y al mismo tiempo reducir los impactos ambientales (como el agotamiento de la capa de ozono y el potencial de calentamiento global). El HFE se utiliza ampliamente como agente de limpieza de precisión, refrigerante, portador de disolventes, etc., especialmente en los campos de la electrónica, los semiconductores y el aeroespacial.
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Nombre químico: |
Éter 1,1,2,2-tetrafluoroetilo 2,2,2-trifluoroetilo |
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TAS: |
406-78-0 |
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MF: |
C4H3F7O |
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MM: |
200.05 |
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EINECS: |
609-858-6 |
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Propiedades químicas |
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Punto de ebullición |
56,2 grados |
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densidad |
1.487 |
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índice de refracción |
1.276 |
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Peso específico |
1.487 |
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Referencia de la base de datos CAS |
406-78-0 (Referencia de la base de datos CAS) |
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Sistema de registro de sustancias de la EPA |
HFE-347pcf2 (406-78-0) |
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Artículos de prueba |
Presupuesto |
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Apariencia |
Líquido transparente e incoloro |
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Pureza |
Mayor o igual al 99,5% |
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Agua |
Menor o igual a 100 ppm |
Limpieza de obleas semiconductoras HFE 347 Visita a la fábrica Teléfono:+086-592-5803997
Proveedor de limpieza de semiconductores - Perfil de empresa Teléfono:+086-592-5803997
Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. es una empresa estratégica en la que invirtió Juhua Group - líder en la industria fluoroquímica de China - para avanzar en el sector de materiales electrónicos de alta-.
Juda se basa en todas las fortalezas de la cadena industrial del grupo, que abarca desde materias primas de flúor fundamentales hasta fluoropolímeros avanzados, y aprovecha su experiencia tecnológica a largo plazo-para superar las barreras de suministro internacional y lograr la autosuficiencia en materiales electrónicos básicos. La empresa se especializa en ofrecer soluciones esenciales basadas en flúor-de alto rendimiento-para la producción de semiconductores, circuitos integrados y otras aplicaciones electrónicas sofisticadas.
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